NO.1
ACTIVE
OP TEMP1100 ℃ (MAX 1300)
CHAMBERW700 × H700 × D1300 mm
VACUUMATM → 10⁻⁷ TORR
QUENCHAr / N₂ HIGH PRESSURE
CLEANCLASS 10K
THREE FURNACES,
ONE QUIET
LANGUAGE.
고진공 열처리, 고압냉각, 상제어 질화. 세 공정은 서로 다른 문제를 다루지만, 금속에 정확한 시간을 돌려준다는 목적만큼은 동일합니다.
HIGH VACUUM HEAT.
> 10⁻⁷ TORR
진공도가 한 자릿수 내려갈 때마다 표면은 다른 언어를 씁니다. 10⁻⁶ ~ 10⁻⁷ Torr의 영역에서는 티타늄과 지르코늄이 본래의 광휘를 되찾고, 용접부의 응력은 조용히 풀립니다.
어닐링, 솔루션 처리, 경화·템퍼링 전 공정을 이 영역에서 다룹니다. 1100℃를 상시 구간으로, 최대 1300℃까지 운영합니다.
PLATE · VAC01 / 16:9
VACUUM UNIT · EXTERIOR
TO BE SHOT◼ FIELD
PROCESS 02
HIGH-PRESSURE QUENCH.
PLATE · GQ02 / 16:9
GAS CONTROL
TO BE SHOT◼ FIELD
> UNIFORM HARD
Ar·N₂ 고압 가스 냉각은 유체 냉각이 허용하지 않는 균일성을 만듭니다. 특히 복잡 형상의 부품, 대형 주조품에서 변형과 치수 변화를 최소화합니다.
냉각 가스의 종류·압력·유량을 레시피 단위로 관리합니다. “쏟아붓는 냉각”이 아니라, 조율된 바람입니다.
PHASE-CONTROLLED NITRIDE.
> TUNED LAYER
상제어(phase-controlled) 질화는 화이트레이어의 유무와 두께, 질화 깊이를 의도한 대로 설계할 수 있게 해줍니다. 단순히 “질화”가 아니라, 용도에 맞는 질화입니다.
공구강·금형·내마모 부품에서 2~3배의 수명 연장 사례. 후가공이 필요 없는 치수 안정성이 가장 큰 장점입니다.
PLATE · NT03 / 16:9
NITRIDE CHAMBER
TO BE SHOT◼ FIELD
EQUIPMENT
NO. 1 — 4 FURNACES.
NO.2
ACTIVE
LINEGAS QUENCH 특화
CHAMBERTBD · SPEC UPDATE
LOGAUTO · 5Y RETENTION
NO.3
ACTIVE
LINEPHASE-CTRL NITRIDE
LAYER0 ~ 20 μm · TUNABLE
GAS RATION / H / NH₃ · PRECISE
NO.4
NEW · 2024
STATUSADDED 2024
FOCUSSEMICON · AEROSPACE
SPECANNOUNCEMENT PENDING