Unit · 01Active
No.1
Op Temp1100 ℃ (Max 1300)
ChamberW700 × H700 × D1300 mm
VacuumATM → 10⁻⁷ Torr
QuenchAr / N₂ · High Pressure
CleanClass 10K
세 개의 노(爐),
하나의 언어.
고진공 열처리, 고압냉각, 상제어 질화. 세 공정은 서로 다른 문제를 다루지만, 금속에 정확한 시간을 돌려준다는 목적만큼은 동일합니다.
High Vacuum Heat.
10⁻⁷ Torr의 침묵
진공도가 한 자릿수 내려갈 때마다 표면은 다른 언어를 씁니다. 10⁻⁶ ~ 10⁻⁷ Torr의 영역에서는 티타늄과 지르코늄이 본래의 광휘를 되찾고, 용접부의 응력은 조용히 풀립니다.
어닐링, 솔루션 처리, 경화·템퍼링 전 공정을 이 영역에서 다룹니다. 1100℃를 상시 구간으로, 최대 1300℃까지 운영합니다.
Plate · Vac01 / 16:9
고진공로 외부 — 촬영 예정
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Process 02
High-Pressure Quench.
Plate · GQ02 / 16:9
고압냉각 가스 제어부
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변형 없는 경도
Ar·N₂ 고압 가스 냉각은 유체 냉각이 허용하지 않는 균일성을 만듭니다. 특히 복잡 형상의 부품, 대형 주조품에서 변형과 치수 변화를 최소화합니다.
냉각 가스의 종류·압력·유량을 레시피 단위로 관리합니다. “쏟아붓는 냉각”이 아니라, 조율된 바람입니다.
Phase-Controlled Nitriding.
원하는 질화층만
상제어(phase-controlled) 질화는 화이트레이어의 유무와 두께, 질화 깊이를 의도한 대로 설계할 수 있게 해줍니다. 단순히 “질화”가 아니라, 용도에 맞는 질화입니다.
공구강, 금형, 내마모 부품에서 2~3배의 수명 연장 사례. 후가공이 필요 없는 치수 안정성이 가장 큰 장점입니다.
Plate · NT03 / 16:9
질화 공정 · 제어 콘솔
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설비
No. 1 — 4 호기.
아래는 참고용 대표 스펙입니다. 실제 세부 스펙은 문서 정합성 확인 후 교체됩니다.
Unit · 02Active
No.2
LineGas Quench 특화
ChamberTBD · Spec update
LogAuto · 5Y retention
Unit · 03Active
No.3
LinePhase-ctrl Nitride
Layer0 ~ 20 μm · Tunable
Gas ratioN / H / NH₃ · Precise
Unit · 04New · 2024
No.4
StatusAdded 2024
FocusSemicon · Aerospace
SpecAnnouncement pending